A különleges pamut arcmaszkot, ami a napfény hatására önmagát fertőtleníti, vagyis elpusztítja a rárakódott baktériumok és vírusok 99,999 százalékát, a Kaliforniai Egyetem kutatói, Peixin Tang, Gang Sun, Nitin Nitin és az ő kollégáik fejlesztették ki.
Ha napfényben tartózkodik, a maszk gazdája akár már az ebédszünetében is fertőtlenítheti azt, sőt, beltéri fények által is. Igaz, ez utóbbi kicsit lassabb és kevésbé intenzív módja a fertőtlenítésnek.
A kutatók kimutatták, hogy a napfény 60 percen belül megölte az általuk létrehozott anyagra telepített baktériumok 99,999 százalékát, és 30 percen belül semlegesítette a T7 bakteriofágot, egy vírust, amely egyes koronavírusoknál is ellenállóbb a reaktív oxigénfajoknak. A további tesztek kimutatták azt is, hogy az anyagot legalább tízszer kézzel is ki lehetett mosni anélkül, hogy ez befolyásolta volna az antimikrobiális jellegét.
A kutatók szerint az anyag ígéretes alapanyag lehet többször használatos antibakteriális/antivirális maszkok és védőruhák készítéséhez.
